近日，三星电子会长李在镕亲自前往德国奥伯科亨，访问了全球领先的精密光学技术公司蔡司的总部。此次访问旨在加强三星与蔡司在半导体技术领域的合作，特别是针对EUV（极紫外）光刻技术的深度合作。
蔡司作为ASML EUV光刻机光学系统的独家供应商，其技术和专利在行业内具有极高的影响力。每台EUV光刻机中，都包含了大量的蔡司组件，这些组件的精度和性能直接决定了光刻机的整体性能。此外，蔡司在EUV光刻技术领域拥有大量关键专利，进一步巩固了其在这一领域的领先地位。
访问期间，李在镕与蔡司CEO卡尔·兰普雷希特等高层进行了深入的交流。双方就半导体技术的主要发展趋势、中长期技术路线图等问题进行了讨论，并一致同意进一步扩大在EUV技术和先进半导体设备相关领域的合作。
通过深化合作，三星电子有望在未来的半导体产品上实现性能增强、流程优化和产能提升。这些改进将直接提升三星在半导体代工和存储器业务领域的竞争力，使其在激烈的市场竞争中占据更有利的位置。
此外，蔡司还计划在未来几年内投资数十亿韩元在韩国建设研发中心，以加强与三星等韩国企业的战略合作。这一投资不仅将提升蔡司在亚洲地区的技术影响力，也将为韩国半导体产业的发展注入新的动力。
值得一提的是，三星电子还计划在今年内实现1cnm（第六代10nm级）内存的量产，并正积极推广其NPU业务。这一系列的举措表明，三星正在全力推进半导体技术的研发和应用，以应对日益激烈的市场竞争。
此次李在镕的访问和双方的合作深化，无疑为三星和蔡司在未来的半导体技术领域的发展开启了新的篇章。我们期待双方能够继续携手合作，共同推动全球半导体技术的进步和发展。